イオン-ちゅうにゅう ―ニフ [4] 【―注入】 〔ion implantation〕 半導体に不純物を添加する方法の一。不純物をイオン化してビームにし，電気的に制御しながら目的の半導体に注入するので，正確に添加量やその分布を変えることができる。現在の IC 生産技術の中核の一。