フォトレジスト【photoresist】 薄膜にして光・紫外線などを照射すると、当たった部分だけが構造変化し、耐薬品性の硬膜をつくったり、薬品に溶けやすくなったりする材料。ＩＣ回路・ＬＳＩ回路・プリント配線などの作製に用いられる。